集成电路碱性金属抛光液制备技术方法
随着科学技术的发展，对材料表面光洁度和平整度的要求越来越高，这对表面光整技术提出了新的挑战，同时也为该技术的发展和应用提供了机遇。化学抛光技术已在金属精加工、金属样品制备、控制金属表面质量与提高金属表面光洁度等方面获得了极其广泛的应用。化学抛光是金属表面处理中的一个重要工序，通过化学抛光可以获得光洁度高、平整性好的表面，使金属的光反射能力、耐腐蚀性能以及热反射能力得到加强，同时该金属制品的装饰效果得到了提高。
华炬新产品研究所技术咨询委员会科研人员现推荐一项集成电路碱性金属抛光液制备技术方法，随着微电子行业的发展，目前大规模使用的酸性抛光液暴露出严重的问题，随着集成度的提高，酸性抛光液已不能满足巨大规模集成电路(GLSI)多层布线CMP的需求。该技术产品碱性抛光液具有低机械作用、平坦化程度高和无毒环保等优势，现将该集成电路碱性金属抛光液制备技术方法及实例介绍如下供研究参考：（811511 531656）
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该项目由华炬新产品研究所技术咨询委员会多位专家根据目前国内该领域最新技术推荐的新技术、新产品、新工艺，
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