低抛氧化铈抛光粉制备技术工艺方法

铈基磨料被广泛用于研磨各种玻璃材料，尤其随着电子产品种类及数量的不断增长，铈基磨料的应用领域也得到了非常大的扩展，其用于各种玻璃材料的研磨，诸如视窗玻璃、显示器面板及光学仪器仪表等玻璃的研磨。现阶段市场上的铈基磨料通常由铈类稀土的碳酸盐制得，另一类由铈类稀土的碳酸盐制得的含氟铈基研磨材料，主要用于高抛设备的研磨，但针对光学类仪器仪表的玻璃研磨，由于此类玻璃对光学性能的要求较高，用常规的铈基研磨材料加工后的玻璃产品，大多只适用于一些常规的仪器仪表，对于一些要求4级及以上高光洁度和光圈稳定的玻璃光学元件的抛光，则不能达到理想的效果，其主要是由于此类光学元件的研磨一般采用古典低抛工艺。现阶段市场上普遍存在的研磨材料其比重较轻，不易粘糊在抛光面上，影响研磨效果，另外其磨料粉体粒径偏细，研磨过程中元件的光圈不易稳定，粒径偏大，对元件的光洁度影响较大。

为了克服上述现有技术缺陷，华炬新产品研究所技术咨询委员会科研人员现推荐一项低抛氧化铈抛光粉制备技术工艺方法，该技术产品的使用可以有效解决现有铈基研磨材料研磨时无法同时满足光学元件高光洁度与稳定的光圈的技术问题，该技术产品制备方法简便，生产成本低；该方法所制得的抛光粉可兼具光学元件高光洁度与稳定的光圈之效果现将该低抛氧化铈抛光粉制备技术工艺方法及实例介绍如下供研究参考：（611511  563563）

该项目由华炬新产品研究所技术咨询委员会多位专家根据目前国内该领域最新技术推荐的新技术、新产品、新工艺，
包括技术工艺、技术创新、技术配方、方法步骤及实例等方面的推荐，供同仁参考交流，
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