磁盘基片抛光液技术配方及方法

磁盘基片一般是由铝镁合金或玻璃材料制造的，随着计算机工业的迅猛发展，特别是随着计算机磁盘存储密度的迅速提高，要求磁头去读更小、更弱的信号，因而磁头与磁盘介质之间的距离进一步减少以提高输出信号的强度。目前，磁头与磁盘间隙已降低到10nm左右，磁头和磁盘的表面粗糙、划痕和杂质粒子均会对计算机磁盘造成致命的危害，微米级抛光液已不能适应计算机磁盘与磁头抛光的发展要求。预计下一代计算机磁头与磁盘间隙将降低到7-8nm，并且已有人在进行磁头与磁盘间准接触乃至直接接触读写研究。随着磁头与磁盘间运行如此接近，对磁盘表面质量的要求也越来越高。当磁盘表面具有波度时，磁头就会随着高速旋转的存储器硬盘的波动上下运动。然而，如果波度超过一定的高度时，磁头就不再能随着波动运动，它就会与磁盘基片表面碰撞，发生所谓的磁头压碎，磁头压碎会使磁头和存储器硬盘表面上的磁介质损坏，从导致磁盘设备发生故障或读写信息错误。当磁盘表面存在微米级微凸时就会使磁头压碎。当磁盘表面存在凹坑时，就不能完整地写入信息，从而导致信息读出失败。因此，在形成磁介质之前，对磁盘基片进行超精细抛光，使基片的表面粗糙度和波纹度降至最小十分重要，同时必须完全去除微凸、细凹坑、抛光痕迹、表面尘埃等表面缺陷。

华炬新产品研究所技术咨询委员会技术人员现推荐一项磁盘基片抛光液技术配方及方法，该技术产品的应用用于磁盘基片抛光的抛光液，制备工艺简单，条件易于控制，生产成本低，易于工业化生产。具有优良的抛光性能，流动性好、软硬度不能互补、抛光液的抛光效果好，光泽度，划痕数量少，平整度高，用量少，由于是液态避免了粉体的污染，同时溶液清洗，还具有防腐作用，现将该磁盘基片抛光液技术配方及方法介绍如下供研究交流参考：（811511  671545）

该项目由华炬新产品研究所技术咨询委员会多位专家根据目前国内该领域最新技术推荐的新技术、新产品、新工艺，包括技术工艺、技术创新、技术配方、方法步骤及实例等方面的推荐，供同仁参考交流，鉴于技术配方的特殊性不接受退款，请根据需要斟酌后支付，谢谢。