高抛光速率稀土抛光粉制备技术方法 加入收藏

高抛光速率稀土抛光粉制备技术方法

稀土抛光粉是一种以氧化铈为基体的无机抛光材料,其主要应用在各 种材质表面平整的冷加工。由于其具有独特的、高性价比的使用特性 ,在玻璃制品的抛光中应用尤为突出,如各种光学玻璃器件、电视机 显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制 品等物件的抛光,亦已成为当今世界光学和电子产业发展必不可少的 基础原材料。我国对稀土抛光粉的开发起步于上世纪50年代,其制备 工艺从简单的氟碳矿煅烧、磨细、筛分等初加工,到碳酸稀土经氟化 后再煅烧、粉碎,发展到目前以纯液相合成前驱体,然后配合精密煅 烧、粉碎分级工艺的升级。伴随着生产工艺的升级,稀土抛光粉实现 了由传统低附加值应用到光电子高端领域的提升,已经在手机面板、 精密光学镜头和液晶面板等行业获得飞跃式发展。同时抛光粉应用要 求的提高,市场对具有高抛光速率的抛光粉的需求也日益旺盛。原因 在于高抛光速率不仅可以提高抛光加工的生产效率,降低成本,而且 可以减少稀土材料的消耗,应对国家严格的稀土产业政策调控。

稀土抛光粉抛光效率的因素有很多,其中抛光粉本身的物化特性 ,如粒度、硬度、比表面积、结晶度和团聚方式等最为重要,这些特 性主要与制备方法和生产工艺有关。华炬新产品研究所技术咨询委员会科研人员现推荐一项高抛光速率稀土抛光粉制备技术方法,该技术产品抛光速率较高、悬浮性、耐磨性和流动性 较好,且绿色环保的稀土抛光粉的制备方法,该方法还具有工艺过程 简单、成本低、能耗少等特点,且无毒害,适合工业化生产,现将该高抛光速率稀土抛光粉制备技术方法及实例介绍如下供研究交流参考:(611571  325375

 

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日期:2024-11-10 08:18:44
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